Condições de crescimento dos filmes de diamante dopado com boro para aplicação na área de eletroquímica

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Primeiro orientador
dc.contributor.advisor1		Braga, Neila de Almeida
Currículo Lattes do primeiro orientador
dc.contributor.advisor1Lattes		http://lattes.cnpq.br/8772300241940971pt_BR
ORCID do primeiro orientador
dc.contributor.advisor1orcid		https://orcid.org/0000-0002-3935-4936pt_BR
Primeiro membro da banca
dc.contributor.referee1		Novais, Alisson Meza
Segundo membro da banca
dc.contributor.referee2		Bataglion, Giovana Anceski
Autor
dc.creator		Souza, Izabela Travassos de
Instituição do autor
dc.creator.affiliation		Universidade Federal do Amazonaspt_BR
Sigla da instituição do autor
dc.creator.affiliation-init		UFAMpt_BR
E-mail do autor
dc.creator.email		izabelatds@gmail.compt_BR
Data de disponibilização
dc.date.available		2024-10-08T19:44:01Z
Data do evento
dc.date.event		2024-04-05
Resumo / Abstract
dc.description.abstract		This work focused on conducting a comprehensive literature review on the growth conditions of boron-doped diamond (BDD), consulting renowned databases such as ScienceDirect, Scopus, and Web of Science, where a total of 8.559 articles related to the topic were identified. The main goal was to understand the complexity and advances associated with the process of doping diamonds with boron, a technique that presents a series of challenges and variables, such as boron concentration, temperature, growth pressure, and its applications in electrochemistry. The results highlight significant progress in the chemical vapor deposition (CVD) method for the growth of BDD. It was observed that precision in temperature control (700oC to 1200oC) and pressure (27 to 270 kPa) during the CVD process is crucial for the quality of the diamond produced. These electrodes are particularly useful for water treatment and purification, demonstrating the ability to efficiently degrade organic pollutants. Optimizing the boron doping concentration, ranging between 500 and 10.000 ppm, is fundamental to maximize the desired properties and adapt the electrodes for different industrial and environmental applications. The conducted analysis emphasizes the importance of continuing to explore and optimize BDD growth techniques, as well as deepening the understanding of doping mechanisms and expanding the practical applications of doped diamonds.pt_BR
Condicional
dc.description.condicional		Nãopt_BR
Nota
dc.description.nota		1pt_BR
Resumo (português)
dc.description.resumo		Este trabalho teve como foco realizar uma revisão bibliográfica abrangente sobre as condições de crescimento do diamante dopado com boro (DDB), consultando bases de dados renomadas como ScienceDirect, Scopus e Web of Science, onde foi identificado um total de 8.559 artigos relacionados ao tema. O objetivo principal foi compreender a complexidade e os avanços associados ao processo de dopagem de diamantes com boro, uma técnica que apresenta uma série de desafios e variáveis, tais como a concentração de boro, temperatura, pressão de crescimento e suas aplicações na eletroquímica. Os resultados destacam progressos significativos no método de deposição química em fase vapor (CVD) para o crescimento de DDB. Observou-se que a precisão no controle da temperatura (700oC a 1200oC) e da pressão (27 a 270 kPa) durante o processo de CVD é crucial para a qualidade do diamante produzido. Esses eletrodos são particularmente úteis para o tratamento e purificação de água, demonstrando a capacidade de degradar poluentes orgânicos de maneira eficiente. A otimização da concentração de dopagem com boro, variando entre 500 e 10.000 ppm, é fundamental para maximizar as propriedades desejadas e adaptar os eletrodos para diferentes aplicações industriais e ambientais. A análise conduzida ressalta a importância de continuar explorando e otimizando as técnicas de crescimento de DDB, assim como aprofundar o entendimento dos mecanismos de dopagem e expandir as aplicações práticas dos diamantes dopados.pt_BR
Endereço permanente (URI)
dc.identifier.uri		https://riu.ufam.edu.br/handle/prefix/7958
Idioma
dc.language		porpt_BR
País
dc.publisher.country		Brasilpt_BR
Curso
dc.publisher.course		Química - Bacharelado - Manauspt_BR
Faculdade, Instituto ou Departamento
dc.publisher.department		ICE - Instituto de Ciências Exataspt_BR
Local de publicação
dc.publisher.localpub		Manaus (AM)pt_BR
Tipo de acesso
dc.rights		Acesso Abertopt_BR
Palavras-chave
dc.subject		Diamante dopado com boropt_BR
Palavras-chave
dc.subject		Eletroquímicapt_BR
Palavras-chave
dc.subject		Condições de crescimentopt_BR
Palavras-chave
dc.subject		Aplicaçõespt_BR
Palavras-chave
dc.subject		Revisão bibliográficapt_BR
Palavras-chave
dc.subject		Boron-doped diamondpt_BR
Palavras-chave
dc.subject		Electrochemistrypt_BR
Palavras-chave
dc.subject		Growth conditionspt_BR
Palavras-chave
dc.subject		Applicationspt_BR
Palavras-chave
dc.subject		Literature reviewpt_BR
Área de conhecimento (CNPq)
dc.subject.cnpq		CIENCIAS EXATAS E DA TERRApt_BR
Título
dc.title		Condições de crescimento dos filmes de diamante dopado com boro para aplicação na área de eletroquímicapt_BR
Tipo de documento
dc.type		Trabalho de Conclusão de Cursopt_BR

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